제논 플라즈마 집속 이온빔 시스템
- 구축연도
- 2025년 구축
- 약칭
- FIB-SEM
- 제조사
- TESCAN
- 모델명
- SOLARIS X
- 담당자명
- KTL 최원렬 연구원
- 문의전화
- 031-500-0462
장비 사용 용도
- 반도체 소재⋅부품 정밀 가공 및 단층 분석을 위한 장비
- 광범위한 영역 정밀 가공을 위한 Xe plasma 이온빔
- 반도체 패턴 국소부위 단면 분석, 정성분석, 결정립 분석, 결정립계 분석, 결정방향 분석 등
주요스펙
- on beam type : xe plasma
- 분해능 : 12 nm at 30 keV
- Prove current : 1 pA to 3 uA
- Ion Beam energy : 3 keV to 30 keV
- Prove current : 2 pA to 400 nA
- Electron Beam Energy : 200 eV to 30 keV
- Detector Type : SE and BSE