Dry etch 교육
- 모집기간
- 지원대상
- 지원기준
- 교육일정
- 교육장소
- 반도체 식각 공정에서 중요시되는 핵심기술을 이해
- 여러 Etch 공정방법을 이해하고 ICP Etcher를 활용하여 etch rate, etch profile, selectivity, uniformity 등 공정에 영향을 미치는 parameter를 파악하여 활용
| 교육시간 | 교육내용 |
|---|---|
| 09:00 ~ 12:00 | Plasma etch principle |
| 12:00 ~ 12:30 | Q&A |
| 교육시간 | 교육내용 |
|---|---|
| 09:00 ~ 12:00 | ICP/CCPtype chamber |
| 12:00 ~ 12:30 | Q&A |
| 교육시간 | 교육내용 |
|---|---|
| 09:00 ~ 12:00 | Chamber parts |
| 12:00 ~ 12:30 | Q&A |